足底壓力分布檢查扁平足與高足弓的原理是基于力學(xué)測量和空間-時間信號分析。

由壓力傳感陣列(鞋墊型或壓力墊)、數(shù)據(jù)采集器和分析軟件構(gòu)成；傳感器有電阻式、電容式或壓電式幾種，它們把接觸壓力轉(zhuǎn)變?yōu)殡娦盘?，?jīng)模數(shù)轉(zhuǎn)換、時間同步和濾波后獲得二維或三維壓力圖譜和時間序列。

靜態(tài)檢查的關(guān)鍵量有接觸面積、足弓區(qū)域的接觸比(習(xí)慣用"弓形指數(shù)中足載荷比"表示中足的比例)、峰值壓力和壓力積分(壓力-時間積分)。

扁平足的足弓塌陷導(dǎo)致中足接觸面積增大、中足壓力明顯增多，弓形指數(shù)增大；同時足的整體接觸面積擴大，后足和前足的負(fù)載比例趨于均勻或后足負(fù)載相對下降。

高足弓則相反，中足接觸面積減少、弓形指數(shù)下降，中足壓力低而前足和后跟出現(xiàn)更多的峰值壓力和集中的壓力點，壓力-時間積分某些局部區(qū)域增大，表明局部應(yīng)力集中。

足底壓力分布系統(tǒng)沿著足跡隨時間記錄壓力分布，得出cop軌跡、cop遷移速度、負(fù)荷速率，以及在各個步態(tài)相位(觸地、支撐、離地)中各個分區(qū)的載荷時間比。

扁平足的cop軌跡通常內(nèi)翻或內(nèi)側(cè)偏移、cop路徑更加平直和中足早期參與負(fù)荷；

高足弓的cop路徑可能狹窄并且在前足外側(cè)和后跟出現(xiàn)快速的壓力突增。

通過與體重歸一化的數(shù)據(jù)比較，可以比較客觀地評價異常載荷模式。此外，通過融合壓力數(shù)據(jù)和三維足形重建，現(xiàn)代評估可以區(qū)分結(jié)構(gòu)性扁平(骨性)和功能性扁平(肌腱或肌力因素)，用于矯形器具的厚度、支持位置和材料的選擇。

分析還需要考慮標(biāo)定、傳感器分辨率、采樣頻率和步速的影響；

因此，多次重復(fù)測量、步態(tài)標(biāo)準(zhǔn)化和統(tǒng)計處理通常被用來提高可靠性。

足底壓力分布系統(tǒng)使用高密度傳感陣列和時空信號分析，量化中足接觸比例、局部峰值壓力、壓力時間積分和cop軌跡等參數(shù)，區(qū)分扁平足和高足弓的cop路徑特征差異，為臨床診斷、矯形設(shè)計和康復(fù)評估提供客觀數(shù)據(jù)，但需結(jié)合影像學(xué)和臨床體格檢查結(jié)果來確定病因并指導(dǎo)個體化干預(yù)。